UV Reticle缺陷检测设备 CFY401 | 慕尼黑上海电子生产设备展 productronica Shanghai

UV Reticle缺陷检测设备 CFY401 | 慕尼黑上海电子生产设备展 productronica Shanghai UV Reticle缺陷检测设备 CFY401,CFY401 UV Reticle Defect Inspection System,测试测量和质量保证,慕尼黑上海电子生产设备展 productronica Shanghai CFY401 是一款面向 MaskShop 及 FAB 产线的专用 UV 级 Reticle 图形缺陷检测设备，聚焦核心区域图形缺陷检测，可助力产线精准识别影响芯片良率的关键瑕疵。它采用 360 纳米紫外光源，搭配反射 / 透射双光路设计，支持 Die2Die、Die2DB、Starlight 等多种检测模式，能够精准识别各类复杂图形缺陷。设备兼容 6025 规格 Reticle，采用 SMIF Pod 自动开盒与自动上下料方案，保障了超高洁净度环境下的传输稳定性。 CFY401 的检测能力可达 130nm，检测速度小于 35 分钟 / 片，在兼顾高检测灵敏度与稳定性的同时，可满足先进制程对 Reticle 缺陷监控的严苛要求，帮助客户提升光罩及芯片制造良率。

产品介绍

UV Reticle缺陷检测设备 CFY401

CFY401 是一款面向 MaskShop 及 FAB 产线的专用 UV 级 Reticle 图形缺陷检测设备，聚焦核心区域图形缺陷检测，可助力产线精准识别影响芯片良率的关键瑕疵。它采用 360 纳米紫外光源，搭配反射 / 透射双光路设计，支持 Die2Die、Die2DB、Starlight 等多种检测模式，能够精准识别各类复杂图形缺陷。设备兼容 6025 规格 Reticle，采用 SMIF Pod 自动开盒与自动上下料方案，保障了超高洁净度环境下的传输稳定性。 CFY401 的检测能力可达 130nm，检测速度小于 35 分钟 / 片，在兼顾高检测灵敏度与稳定性的同时，可满足先进制程对 Reticle 缺陷监控的严苛要求，帮助客户提升光罩及芯片制造良率。