明场纳米图形缺陷检测设备—CFW921 | 慕尼黑上海电子生产设备展 productronica Shanghai

明场纳米图形缺陷检测设备—CFW921 | 慕尼黑上海电子生产设备展 productronica Shanghai 明场纳米图形缺陷检测设备—CFW921,**Bright-field Nano Pattern Defect Inspection System — CFW921,测试测量和质量保证,慕尼黑上海电子生产设备展 productronica Shanghai CFW921 是一款高规格的 FAB 前道图形缺陷检测设备，它配备了双路 TDI 高分辨率传感器，搭载明场 / 暗场同步成像技术，一次扫描可同时采集明场和暗场图像，能扫描检出更多瑕疵。适用于 FAB 前道的 ADI/AEI 等多个工艺站，可帮助客户快速筛选产线上影响产品质量的典型图形缺陷和表面缺陷，确保各种工艺稳定运行。设备支持 2X/5X/10X/20X 扫描倍率，可满足高吞吐率和瑕疵高检出率的应用场景，同时具备 iDO 自动分类、Die to die 算法等功能，兼容 8 寸 / 12 寸晶圆，助力产线良率提升。

产品介绍

明场纳米图形缺陷检测设备—CFW921

CFW921 是一款高规格的 FAB 前道图形缺陷检测设备，它配备了双路 TDI 高分辨率传感器，搭载明场 / 暗场同步成像技术，一次扫描可同时采集明场和暗场图像，能扫描检出更多瑕疵。适用于 FAB 前道的 ADI/AEI 等多个工艺站，可帮助客户快速筛选产线上影响产品质量的典型图形缺陷和表面缺陷，确保各种工艺稳定运行。设备支持 2X/5X/10X/20X 扫描倍率，可满足高吞吐率和瑕疵高检出率的应用场景，同时具备 iDO 自动分类、Die to die 算法等功能，兼容 8 寸 / 12 寸晶圆，助力产线良率提升。